Perbedaan utama antara PVD dan CVD adalah bahwa bahan pelapis di PVD berbentuk padat sedangkan di CVD dalam bentuk gas.
PVD dan CVD adalah teknik pelapisan, yang dapat kita gunakan untuk mengendapkan film tipis pada berbagai substrat. Pelapisan substrat penting dalam banyak kesempatan. Pelapisan dapat meningkatkan fungsionalitas substrat; memperkenalkan fungsionalitas baru pada media, melindunginya dari kekuatan eksternal yang berbahaya, dll. Jadi, ini adalah teknik yang penting. Meskipun kedua proses memiliki metodologi yang sama, ada sedikit perbedaan antara PVD dan CVD; oleh karena itu, mereka berguna dalam berbagai contoh.
